（2）需求拉动拓宽应用领域
高性能溅射靶材行业的发展与下游平面显示、半导体集成电路、新能源电池、光伏等新兴产业的市场需求及技术革新密切相关，下游行业的持续发展升级对溅射靶材性能、技术均提出了更高要求。随着终端用户需求的不断扩展以及高性能薄膜材料与磁控溅射技术的蓬勃发展，溅射靶材正朝着高纯度、大尺寸、高致密度、高溅射速率和高利用率等方向快速发展，综合性能将持续提升，进一步拓展至复合铜箔、BIPV、航空航天材料等新型下游应用领域。
（3）技术创新赋能行业变革
随着5G、半导体集成电路、互联网、人工智能等产业的迅速发展，人类社会已从“万物互联”步入“万屏互联”、“万物显示”时代，新型显示成为创新领域最蓬勃发展的产业方向之一。近年来，电子光学、材料学、机械学等领域相关学科不断取得重大突破，OLED、MiniLED、MicroLED新型显示技术竞相发展，8K超高清、3D显示、柔性显示、透明显示等技术领域进步显著，正颠覆传统显示终端应用形态。
四、中国溅射靶材行业发展现状
1.中国溅射靶材行业市场规模
2018-2022年中国溅射靶材行业市场规模由243亿元增长至395亿元，近五年年度复合增长率为12.91%。未来，伴随着显示面板产能转移、半导体国产化进程加速以及太阳能电池市场景气度不断上升,下游市场对高性能溅射靶材需求量将不断增加。我国溅射靶材市场前景广阔，预计2024年市场规模将增长至476亿元。
数据来源：中商产业研究院整理
2.中国溅射靶材产业链上中下游分析
溅射靶材产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节。其中靶材制造是溅射靶材产业链中的关键环节，溅射靶材的产品质量、性能指标直接决定了终端产品的品质和稳定性。
资料来源：中商产业研究院整理
溅射靶材产业链中,上游金属提纯环节主要是将自然界含有杂质的金属进行提纯处理，从而满足靶材制造环节的生产需求;靶材制造环节所需工序精细繁多，同时需要根据下游应用领域的性能、需求进行特有的工艺设计;溅射镀膜环节主要是将溅射靶材安装在专用的溅射镀膜设备中完成溅射反应，制备出具有导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导、耐磨、装饰等特性的膜层，并进行元器件封装;终端应用是利用完成封装的元器件生产面向最终用户的产品。
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