中商情报网讯：光刻机作为芯片产业的核心装备，是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。2023年3月8日荷兰政府发布光刻机新出口管制，ASML需要申请出口许可，才能装运最先进的浸没式DUV系统。为了避免在芯片产能爬坡时被外界的设备供应给“卡脖子”，国产光刻机正在加快突破。
一、光刻机行业发展现状
1.光刻机销量
全球半导体设备行业复苏,受益于下游晶圆巨大需求、服务器云计算和5G基础建设的发展,相关芯片的需求增加。2021年全球集成电路、面板、LED用光刻机出货约650台，较2020年增加70台。其中集成电路制造用光刻机出货约500台；面板、LED用光刻机出货约150台。2021年全球光刻机销量为450台，随着下游市场需求持续升高，预计2023全球市场仍将持续增长，销量将超550台。
数据来源：中商产业研究院整理
2.光刻机成本占比
光刻机可用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。2021年全球前道光刻设备市场规模为172亿美元，其市场份额在晶圆生产设备中占比为20%，仅次于蚀刻设备。光刻机价格昂贵，ASML当前EUV光刻机单价为1.5亿-2亿美元。
数据来源：SEMI、中商产业研究院整理
3.光刻机行业竞争格局
全球光刻机市场的主要竞争者为ASML、Nikon和Canon。2022年三大企业光刻机营收合计接近200亿美元，合计市场份额超过90%。其中，ASML光刻机营收约161亿美元，较2021年增长了23%，Canon光刻机营收约为20亿美元，Nikon光刻机业务营收约15亿美元。ASML在全球光刻机TOP3市场份额占比82.1%，占绝对龙头地位。
从产品出货类型来看，ASML在超高端光刻机领域一家独大，如EUV、ArFi等类型光刻机，产品众多；Canon与Nikon产品部分光刻机用于面板业，部分用于半导体，Canon目前产品集中于特定工艺领域的i-Line和KrF设备，Nikon拥有除了EUV以外的所有类型光刻机产品，出货量少于前两家。
数据来源：中商产业研究院整理
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