中商情报网讯：靶材是溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材，特别是高性能溅射靶材应用于电子元器件制造的物理气相沉积工艺，是制备半导体晶圆、显示面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。
高性能溅射靶材市场规模增长稳定
我国高性能溅射靶材行业在国家战略政策支持以及下游众多应用领域需求的支撑下，行业技术不断突破，产品性能不断提升，带动高性能溅射靶材市场规模不断扩大。数据显示，中国高性能溅射靶材市场规模由2016年的98.9亿元增长至2020年的201.5亿元，年均复合增长率为19.47%。中商产业研究院预测，2022年中国高性能溅射靶材市场规模将达288.1亿元。
数据来源：中商产业研究院整理
应用市场分析
溅射靶材是平面显示、太阳能电池、半导体等领域生产所需的关键材料，具有较高附加值和良好的市场发展前景。在下游主要应用市场中，平面显示领域占比最高，达到30%。其次是半导体集成电路，占比达20%；太阳能电池领域占比达18%。
数据来源：中商产业研究院整理
更多资料请参考中商产业研究院发布的《中国高性能溅射靶材行业市场前景及投资机会研究报告》,同时中商产业研究院还提供产业大数据、产业情报、产业研究报告、产业规划、园区规划、十四五规划、产业招商引资等服务。
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