中商情报网讯：近年来，随着大规模和超大规模集成电路的快速发展，光刻胶作为微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，也迎来了高速发展。随着中国企业在半导体光刻胶关键技术领域取得突破，以及中国半导体产能快速扩展和供应链自主可控需求带来的发展机遇，国内半导体光刻胶发展。
一、光刻胶定义
光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。经过几十年不断的发展和进步，光刻胶的应用领域不断扩大，衍生出非常多的种类，根据应用领域，光刻胶可分为半导体光刻胶、平板显示光刻胶和PCB光刻胶，其技术壁垒依次降低，具体如下图所示：
资料来源：中商产业研究院整理
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