中商情报网讯：随着光源、曝光方式不断改进，光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。第五代光刻机主要采用的是EUV光源，波长为13.5nm，制程节点仅为7-3nm。目前行业内使用最多的是第四代浸入式光刻机，最高制程可达7nm，在7nm之后芯片厂商必须使用最顶级的EUV光刻机。
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数据显示，2016-2018年，全球IC制造前道光刻机全球销量整体处于上升趋势，2018年全球出货量达到374台。2019年出货量略有下降，全年为359台。
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从竞争格局来看，目前，全球光刻机市场的主要企业即ASML，尼康(Nikon)和佳能(Canon)三家，从光刻机销售额来看，2019年三家企业的合计市场份额就占到了全球光刻机市场的90%以上。
值得一提的是，荷兰ASML公司的主要产品为各级别的光刻机，2019年阿斯麦销售了229台光刻机，其中占比最大的是ArFi光刻机，且市场占比高达88%；其次是KrF光刻机，市场占比高达71%。值得注意的是，ASML公司的EUV光刻机的市场占比达到了100%，完全垄断了整个市场。
尼康：光刻机领域曾经的世界第一，后被ASML所超越。目前公司主要为中高端机型，包括ArF、KrF、KrF、i-line光源。在ASML之后才推出浸入式光刻机，但是已经落后于ASML。而佳能专注于低端产品，只有i-line和Kr-F光刻机，没有浸入式光刻机，现在佳能已逐渐减少在半导体光刻机领域的投资，转向面板光刻机领域。
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从产品结构来看，2019年，全球EUV、ArFi、ArF、KrF、i-line光刻机的出货量分别为26、93、35、103、102台。2019年ASML、尼康、佳能的光刻机出货量分别为229、46、84台，
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在国产光刻机领域中，上海微电子(SMEE)一枝独秀。其产品主要采用ArF、KrF和i-line光源，目前只能达到90nm制程，且主要用于IC的后道封装和面板领域。SMEE作为国内最领先的光刻机研发企业，有非常多的光刻工艺人才，在产业链还未成熟的国内光刻机行业中，人才优势是主要核心竞争力。作为芯片行业的上游，目前国内还未出现能制造出能满足芯片行业需求的企业，而有着众多光刻工艺人才的SMEE，自然而然就成为最有竞争优势的企业。
2020年6月初，上海微电子宣布将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产浸入式光刻机，国产光刻机有望从此前的90nm工艺一举突破到28nm工艺。
更多资料请参考中商产业研究院发布的《中国光刻机产业市场前景及投资机会研究报告》，同时中商产业研究院还提供产业大数据、产业情报、产业研究报告、产业规划、园区规划、十四五规划、产业招商引资等服务。
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