中商情报网讯：光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备， 技术含量、价值含量极高。它采用类似照片冲印的技术，把掩模版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
虽然这些年我国在关于光刻机的很多领域取得进展，但是总体来说国内的光刻机技术与国外技术差距依旧有15到20年。光刻机设备是所有半导体设备中复杂度最高、精度最高、单台价格最高的设备，现代工业的集大成者。光刻机主要分为EUV光刻机、DUV光刻机。EUV是最高端的光刻机，其研发周期长达十余年，是光刻机皇冠上的明珠。从产业链来看，光刻机产业链主要包括上游设备及材料、中游光刻机生产及下游光刻机应用三大环节。光刻工艺一般包括气相成底膜、旋转涂胶、软烘、对准和曝光、曝光后烘焙、显影、坚膜烘焙、显影检查等8个步骤。
资料来源：中商产业研究院整理
一、光刻机产业链上游市场分析
光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备。一台光刻机省生产涉及到上游上千家供应商，比如德国的光学设备与超精密仪器，美国的计量设备与光源等。光刻机的主要部件包含测量台与曝光台、激光器、光束矫正器、能量控制器等。
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光刻机产业链上游是光刻机配套设备以及核心组件的供应商。其中涉及的代表企业主要如下：
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