2025年中国光刻胶行业企业核心竞争力排名

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中商情报网讯:光刻胶行业呈现政策驱动、技术分层突破、产业链协同深化三大特征。ArF/KrF等高端光刻胶国产化率突破30%,配套材料(显影液、电子特气)实现全链条自主可控。设备端高精度定位、光学元件技术填补空白,封装与先进制程需求催生PSPI、纳米分散体等创新材料。未来竞争将聚焦EUV胶研发、车规级认证壁垒及设备-材料一体化生态构建,技术迭代速度与客户黏性成为企业护城河

2025年中国光刻胶行业企业核心竞争力排名

排名 企业简称 核心竞争力 详细分析
1 南大光电 ArF光刻胶国产化破冰者 国内唯一实现ArF光刻胶(28nm制程)量产企业,2025年产能达500吨,客户覆盖中芯国际、长江存储,国产替代率突破30%
2 彤程新材 KrF光刻胶龙头+EUV胶研发 旗下科华微电子占KrF胶国内市场份额超40%,与ASML合作开发EUV封装技术,2025年产能翻倍至2000吨
3 上海新阳 全品类光刻胶覆盖 覆盖g/i线、KrF、ArF全品类,自研193nm ArF胶通过验证,配套显影液、蚀刻液形成“材料包”技术协同优势
4 晶瑞电材 G线光刻胶市占率第一 子公司苏州瑞红占国内g/i线光刻胶30%份额,新增5万吨半导体级光刻胶项目2025年投产,车规级认证构筑壁垒
5 华懋科技 光刻胶单体技术储备 参股徐州博康掌握全球80%光刻胶单体技术,ArF胶研发进度领先,2025年光刻胶营收占比超50%
6 容大感光 PCB光刻胶 PCB及显示面板光刻胶市占率18%,紫外正胶技术成熟,半导体光刻胶产线2025年投产切入封装市场
7 凯美特气 光刻气体全球认证 电子特气获ASML认证,二氧化碳动态减压分离技术领先,与Cymer合作深化光刻气供应
8 新莱应材 光刻机洁净材料供应商 真空腔体、管道等洁净材料应用于光刻机设备制造,全链条布局提升半导体生产精度
9 红宝丽 光刻胶清洗配套材料 异丙醇胺产品用于光刻胶清洗工序,本土化替代率超60%,适配先进制程清洗需求
10 国风新材 封装光刻胶创新者 自主生产PSPI光刻胶耐热性优异,适配高温芯片封装,受益半导体封装市场扩容
11 奥普光电 光刻机高精度定位技术 绝对式光栅尺技术打破海外垄断,应用于光刻机双工件台系统,订单量预计翻倍
12 张江高科 光刻机产业链协同平台 承载上海微电子28nm光刻机研发,产学研用协同覆盖前道IC制造与先进封装领域
13 福晶科技 光刻机光源核心材料 LBO/BBO晶体全球市占率超60%,布局EUV光源晶体研发,潜在百亿级增量市场
14 茂莱光学 光刻机光学元件国产化 掌握曝光物镜超精密加工技术,DUV至EUV光学元件绑定上海微电子,2025年营收破10亿
15 芯碁微装 直写光刻技术领先 90nm制版技术替代日本Screen Holdings,切入2.5D/3D封装市场,设备毛利率超50%
16 雅克科技 电子特气+光刻胶树脂 光刻胶树脂覆盖KrF/ArF等级,通过三星、SK海力士认证,受益半导体材料国产化率提升
17 江化微 湿化学品全产业链 光刻胶配套显影液、蚀刻液市占率国内前三,12万吨超净高纯试剂项目2025年投产
18 安集科技 抛光液+光刻胶去除剂 化学机械抛光液全球市占率6%,光刻胶去除剂适配14nm以下制程,技术壁垒高
19 芯源微 涂胶显影设备国产替代 前道涂胶显影设备打破东京电子垄断,适配KrF/ArF光刻胶工艺,客户导入中芯绍兴
20 上海新昇 半导体硅片配套材料 300mm大硅片量产支撑光刻胶涂覆工艺,良率达国际水平,产能扩张至60万片/年

资料来源:中商产业研究院整理

更多资料请参考中商产业研究院发布的《2024-2028年中国光刻胶市场调研及发展趋势预测报告》,同时中商产业研究院还提供产业大数据、产业情报、行业研究报告、行业白皮书、行业地位证明、可行性研究报告、产业规划、产业链招商图谱、产业招商指引、产业链招商考察&推介会、“十五五”规划等咨询服务。